| 图片 |
标 题 |
更新时间 |
 |
吉致电子JEEZ氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液
无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Ox
|
2023-08-08 |
 |
吉致电子JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry抛光液
无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水
|
2023-08-08 |
 |
吉致电子JEEZ晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry CMP抛光液
无锡吉致电子25年研发生产——晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry CMP抛光液/磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry产品简介：为半导体行业/光学行业调配的磷化铟InP抛光液/CMPSlurry组合浆料，适用于磷化铟晶圆的坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在磷化铟晶圆抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子磷化铟InP Slurry应用为光学表面提供高光洁度抛光相关类型的表面（研磨或机械抛光）以实现纳米级光滑的表面光洁度吉致电子磷化铟抛光液/InPSlurr
|
2023-08-08 |
 |
吉致电子JEEZ半导体抛光液/蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液
无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP
|
2023-08-08 |
 |
吉致电子JEEZ手机LOGO抛光液/金属抛光液/镜面CMP Slurry
无锡吉致电子科技有限公司25年研发生产——手机Logo抛光液、金属抛光液、镜面CMP Slurry、手机Logo研磨液、LOGO SLURRY、CMP化学机械抛光液、CMP集成电路抛光液、手机CMP镜面抛光液金属logo抛光液作用:吉致电子金属logo抛光液适用于Apple Logo抛光，钛合金、铝合金、不锈钢材质的logo标志可通过CMP粗磨、细磨和抛光工序得到理想镜面效果，具有易清洗、无残留等特点。吉致电子可提供各金属类的镜面抛光液：钨钢研磨抛光加工、铜研磨抛光加工、铝合金研磨抛光加工、不锈钢研磨抛光
|
2023-08-08 |
 |
吉致JEEZ 钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液
无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用:吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点：1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤
|
2023-08-08 |
 |
吉致电子JEEZ金属抛光液/液压元件回程盘/九孔盘CMP抛光液
无锡吉致电子科技有限公司25年研发生产：金属抛光液、液压元件回程盘抛光液、九孔盘CMP抛光液、液压泵CMP抛光液、不锈钢抛光液、液压铸件抛光液、CMP抛光液、不锈钢Slurry、CMP集成电路抛光液、CMP化学机械抛光液slurry我司产品优点：1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高
|
2023-08-08 |
 |
吉致电子JEEZ铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry
无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液我司产品优点：1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。 3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。 4.分散性好、乳液均一，程度提升
|
2023-08-08 |
客服热线：
手机版
二维码
产品分类